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羞羞视频入口電子助力您輕鬆解決超結MOS的EMI問(wèn)題

超結MOS在高頻應用中,由於其高速開關特性,容易產生較大的電磁幹擾(EMI)。為解決超結MOSFET的EMI問題,可以從以下幾個方麵進行優化:


1. 控製開關速度


降低開關速度(dù):減少開關上升和下降速度能有效降低EMI。可以在柵極和源極之間加入柵極電(diàn)阻,通過調整電阻值減緩開(kāi)關速度,從而減少高頻(pín)噪聲。

軟開關技術:采用軟開關(guān)技術(如ZVS、ZCS)可使開關器件在電流或(huò)電壓接近零的情況下進行開(kāi)通和關斷,大大降低EMI。

可直接更換器件(jiàn),采用Semihow超結MOSFET改善(shàn)EMI

優勢1:多層外延結構(gòu)減少(shǎo)寄生電容

多層外延(yán)工藝通過在外延層中多次掩刻和摻雜,形成了複(fù)雜的n型和p型交替區域(yù)。這種結構不僅降低了特征電阻,還顯(xiǎn)著減少了寄生(shēng)電容(róng)。寄生電容是EMI的主要來源之一,因為它會在開關過(guò)程中產生高頻噪聲。超結MOSFET較小的寄生電容能有效降(jiàng)低開關損耗,提高開關速度,同時減少(shǎo)EMI的產生。

優勢(shì)2:優(yōu)化的開關特性

超結MOSFET由(yóu)於具有較低的柵(shān)電容和較(jiào)快的開關速(sù)度,在開關過程中產生的dV/dt和dI/dt較小,這有(yǒu)助於減少通過器件和印刷電路板中的寄生電容電感產生的高(gāo)頻噪聲。此外,Semihow通過精確控製製造工藝,確保(bǎo)了產品的開關特性一致性和穩定性,進(jìn)一步減少了EMI的產生。

2. 優化PCB布局


減小回路(lù)麵積:高頻電(diàn)流路徑應(yīng)盡可能短並減少回路麵積,以減少電磁輻射。布線時,將高頻開關路徑盡量靠近接地麵,縮小耦合麵積。

增加去(qù)耦(ǒu)電容:在電源輸入端和MOSFET附近(jìn)添加去耦電容(róng)(如陶瓷電容)以減少高頻尖峰和振蕩的傳導(dǎo)幹擾。

隔離敏感信號:確保功(gōng)率級和控製級之間有足夠的空間隔(gé)離,避免電磁幹擾信號耦合到控製信號上。


3. 使用合適的驅動電路


柵極(jí)驅動電阻:選用合適(shì)的柵極電阻值(通常為10~100Ω),以平衡開關速度(dù)和EMI之間的(de)關係。過低的電阻會(huì)增加EMI,過(guò)高(gāo)的電阻則影響開關速度和效率(lǜ)。

柵極驅動電壓:控製驅動電壓避免過高,因為(wéi)過高的驅動(dòng)電壓會使開關速度加快,產生更大(dà)的EMI。通(tōng)常建議驅動電壓(yā)在MOSFET的(de)額(é)定(dìng)範圍內,且不要超出設計要求。


4. 加入(rù)EMI濾波器


共模濾波器:在輸入和輸出端增(zēng)加共模濾波器(如(rú)共模扼流圈、共模電感),可以抑製共模噪聲。

差模濾波器:在MOSFET的電源和負載路徑上增(zēng)加差模(mó)濾波器(如(rú)電解電容或陶瓷電容)可以有效降低差模噪聲。

鐵氧體磁珠:在高頻噪聲源附近的電源線上增加鐵氧體(tǐ)磁珠,可以有效抑(yì)製高頻噪聲傳播。


5. 增加散熱和屏蔽(bì)


屏蔽罩:為MOSFET及其附近的(de)電路加裝屏蔽罩,以阻擋電磁幹擾的輻射傳播。

熱管理:超結MOSFET在高速開關(guān)時會產生大量熱量。良好的散熱設計可以保持器件在穩定的溫(wēn)度下(xià)工作,從而減少溫度對開關(guān)性能的影響,間接降(jiàng)低EMI問(wèn)題(tí)。


6. 使用抗幹擾材料和優化(huà)封裝


使用吸波材料:在(zài)高頻電(diàn)磁幹擾(rǎo)源附近放置吸波(bō)材料,可吸(xī)收一部分電磁波,減少幹擾。

選擇合適封裝的MOSFET:不同(tóng)封裝類(lèi)型的(de)MOSFET在EMI特性上有差異。優先選擇具備低寄生參數(如低寄生電容、寄生電感)的封裝,可以有效減(jiǎn)少幹擾。


7. 仿真與測試驗證


EMI仿真:在設計階段進行電磁(cí)兼容性(xìng)仿真(如時域和頻域的電磁幹擾分析),提前評估EMI特性並優化。

實測優化:在測試階段,通(tōng)過EMI測試儀和示波器測量實(shí)際的EMI指標,找出主要的噪(zào)聲源,並進行相應(yīng)優化。


通過以上方法可以有效解決超結MOSFET的EMI問題,從而提升電路的電(diàn)磁兼容性和係統的整體性能。


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