碳化(huà)矽 MOSFET:以碳化矽(SiC)為基礎材料,碳化矽是一(yī)種化合物半導體。其禁帶寬度(dù)是矽的 3 倍,導熱率為矽的 4-5 倍(bèi),擊穿電壓為矽的 8-10 倍,電子飽和漂移速率為(wéi)矽的 2-3 倍(bèi)。
超(chāo)結 MOS:一般以矽(Si)為(wéi)基礎材料,通過特殊的超結(jié)結構設計來提升性能。
碳化矽 MOSFET:具有垂直導電結構,常見(jiàn)的有溝槽型和平麵型等,內部(bù)有一個基於 pn 二極管的強大本體二極管。
超結 MOS:通過在 D 端和 S 端排列多個垂直 pn 結(jié)的結構,形成超(chāo)結結構,超級結(jié)中(zhōng)通常使溝槽和溝槽間距盡可能小和深(shēn)。
導通電阻
碳化矽 MOSFET:導通電阻相對超結 MOS 在同功率等級下可能更(gèng)低(dī),且(qiě)碳化矽材(cái)料(liào)特性使得其導(dǎo)通(tōng)電阻隨溫度變化(huà)較小。
超結 MOS:相比(bǐ)普通高壓 VDMOS,導通電阻大幅下降,並且額定電壓越高,導通電阻下降越(yuè)明顯。
開關速度
碳化矽(guī) MOSFET:開關速度極快(kuài),能在更高的頻率下工作(zuò),且由於不存在少數載流子,關斷時無尾電(diàn)流,關斷損耗極小。
超(chāo)結 MOS:開關速度也較快,但通常比碳化矽 MOSFET 稍慢,存在一(yī)定的反向恢複問題,反(fǎn)向恢複電流相對較大。
輸出(chū)電容
碳化矽(guī) MOSFET:輸出電容電荷(Qoss)明顯較低,且與漏電壓特性的電容變化更平滑。
超結(jié) MOS:輸出電容相對較大,不過通過優化設計也能在一定程度(dù)上降低。
耐壓能(néng)力
碳化矽 MOSFET:憑借碳化矽材料高(gāo)擊穿場強的特性,可實現較高的耐壓,一般可達到 1200V 及以上,甚至更高電壓等級。
超結 MOS:通常能(néng)滿足 500V、600V、650V 及以上(shàng)的高電(diàn)壓應用場(chǎng)合。
碳(tàn)化矽 MOSFET:主要應用於(yú)對(duì)效率、功率密(mì)度和開關速度(dù)要求極高的領域,如智能電網、新能源汽車(chē)、光伏風電、5G 通信等中的高頻、高壓(yā)、大功率場景。
超結 MOS:廣泛應用於中低功率水平下需要(yào)高速運行的電路,如電源適配器、LED 照明驅動(dòng)、服務器電源、家電等領域中(zhōng)的高壓開關應用。
碳化矽 MOSFET:由於碳化矽材料(liào)的製備工藝複雜,生產難度大,以及目前的市場規模相對較小等(děng)因素,成本較高。
超結 MOS:基於成熟(shú)的矽工藝,成本相對較低,在市場上(shàng)具有一定的價格優(yōu)勢。
碳化矽(guī) MOSFET:以(yǐ)碳化矽(SiC)為基礎材料,碳化矽是一種(zhǒng)化合物半導體。其禁帶(dài)寬度是矽(guī)的 3 倍,導熱率為矽的 4-5 倍,擊穿電壓為矽的(de) 8-10 倍,電子(zǐ)飽和漂移(yí)速率為矽(guī)的 2-3 倍。
超結 MOS:一般(bān)以矽(Si)為基礎材料(liào),通過特殊的(de)超結結構(gòu)設計來(lái)提升性能。
碳化矽 MOSFET:具有垂直導電結構,常見的有(yǒu)溝(gōu)槽型和平麵型等,內部有一個基於 pn 二極管(guǎn)的強大本體二(èr)極管。
超結 MOS:通(tōng)過在 D 端和 S 端排列多個(gè)垂直 pn 結的結構,形成超結結構,超級結中通常使(shǐ)溝槽和溝槽間距盡可能小和深。
碳化矽(guī) MOSFET:導通電阻相對(duì)超結 MOS 在同功率等級下可能(néng)更低,且碳化矽材(cái)料特性使得其導通電阻隨(suí)溫度變化(huà)較小。
超結 MOS:相比普(pǔ)通高壓 VDMOS,導(dǎo)通電阻大幅下(xià)降,並且額定電壓越高,導通電(diàn)阻下降(jiàng)越明顯。
開關速度(dù)
碳化矽 MOSFET:開關(guān)速(sù)度極快,能在(zài)更高的頻率下工作,且由於不存在少數載流子,關斷時無尾電流(liú),關斷損耗極小。
超結 MOS:開關速度也較快,但通常比碳化矽 MOSFET 稍慢,存在一(yī)定的反(fǎn)向恢複問題,反向(xiàng)恢複電流相對較大。
輸出電容
碳化矽 MOSFET:輸出電容電荷(Qoss)明顯較低,且與(yǔ)漏電壓特性的電容變化更平滑。
超(chāo)結 MOS:輸出電容相對較(jiào)大,不過通過優化設計也能在(zài)一定程度上降(jiàng)低。
耐壓能力
碳化矽 MOSFET:憑借碳化(huà)矽材料高擊穿場強的特性,可實現較高的耐壓,一般可達到 1200V 及以上,甚至更高電壓等級。
超結 MOS:通常能(néng)滿足 500V、600V、650V 及以上的高電壓應用場合。
碳化(huà)矽 MOSFET:主要應用於對效率(lǜ)、功率密度和開關速度要求極高的領域,如智能電網、新能源汽車、光伏風電(diàn)、5G 通信(xìn)等中的(de)高頻、高壓(yā)、大功率場景。
超結 MOS:廣泛應(yīng)用於中低功率水平下需要高(gāo)速運行的電(diàn)路,如電源適配器、LED 照明驅動、服(fú)務器電源、家電等領域中的高壓(yā)開關應用。
碳化矽 MOSFET:由於碳(tàn)化矽材料的製備工藝複雜,生產難度大(dà),以及目前的市場規模相(xiàng)對較小等因素,成本較高。
超結 MOS:基於成(chéng)熟的矽工藝,成本(běn)相對較低,在市場上具有一定的價格優勢。
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